特型表面ナノ構造形成装置
仕様
| メーカー | ULVAC社製 特型 |
|---|---|
| 性能 | 標準2インチ基板、超斜め入射イオンビームによるマスクレスの表面ナノ構造・ナノドット形成可能、組 成制御可能、高分子材料の加工可能 |
| 機能 |
イオンビーム（エネルギー：1.5 keV以下、イオン源直径：3 cm）、アークプラズマガン（金属供給源）、試料ステージ（5 cmφ）からなる装置です。炭素被覆を施した試料に、イオンビームを照射することで、イオンビームの入射方向に配向したカーボンナノファイバー(CNF)を室温で、任意の基板上に合成することができます。CNF合成速度は、10 nm/min程度以上が可能です。このCNFをテンプレートとすることで、試料表面に、円錐状、針状などの微細な構造を高密度に作ることもできます。合成中に、金属を同時に供給することで、CNFやナノ表面構造の組成を制御することも可能です。
特徴
ナノカーボンの一種のCNFを室温で、直径5cm程度の基板に合成できる国内唯一の装置です。ポリイミドなどの柔らかなプラスチック素材の上にもCNFの合成を行うこともできます。イオンビームで作られるCNFは触媒を必要とはしませんが、金属を同時供給することで、用途に応じて、色々な組成の金属含有CNFの作製もできます。透明な素材の透明度を保ったまま、表面にナノ構造を形成することもできます。
